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真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)的作用

作者: 編輯: 來(lái)源: 發(fā)布日期: 20-01-31
信息摘要:
中頻真空鍍膜機(jī)一般要配真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)作為鍍膜機(jī)(主要是圓柱靶)的冷卻設(shè)備。那么真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)到底對(duì)真空鍍膜工藝或 ...

中頻真空鍍膜機(jī)一般要配真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)作為鍍膜機(jī)(主要是圓柱靶)的冷卻設(shè)備。那么真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)到底對(duì)真空鍍膜工藝或者是鍍膜設(shè)備有什么作用呢?不配真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)會(huì)有什么影響呢?我們一起來(lái)了解一下。

    鍍膜工作原理是膜體在高溫下蒸發(fā)落在工件表面結(jié)晶。由于空氣對(duì)蒸發(fā)的膜體分子會(huì)產(chǎn)生阻力造成碰撞使結(jié)晶體變得粗糙無(wú)光,所以要在高真空下才能使結(jié)晶體細(xì)密光亮,如果真空度不高結(jié)晶體就會(huì)失去光澤結(jié)合力也很差。早期真空鍍膜是依靠蒸發(fā)體自然散射,結(jié)合差工效低光澤差。現(xiàn)在采用中頻磁控濺射將膜體的蒸發(fā)分子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜,解決了過(guò)去自然蒸發(fā)無(wú)法加工的膜體品種,如鍍鈦鍍鋯等等。磁控濺射以濺射率高、基片溫升低、膜基結(jié)合力好等優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是鍍膜技術(shù)中突出的成就之一。

    那么真空濺射鍍膜為什么需要使用真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)?中頻設(shè)備的頻率高電流大,電流在導(dǎo)體流動(dòng)時(shí)會(huì)有集膚效應(yīng),電荷會(huì)聚集在電導(dǎo)表面積,這樣使電導(dǎo)發(fā)熱。所以采用中孔管做導(dǎo)體中間加水冷卻。鍍膜為什么也要用冷水機(jī)進(jìn)行冷卻?因?yàn)榇趴貫R射靶在發(fā)射時(shí)會(huì)產(chǎn)生高溫會(huì)使射槍變形,所以它有一個(gè)水套用來(lái)冷卻射槍。

    真空鍍膜機(jī)冷卻系統(tǒng)可以提供恒溫、恒流、恒壓的冷卻水,其工作原理是先向機(jī)內(nèi)水箱注入一定量的水,通過(guò)制冷系統(tǒng)將水冷卻,再由水泵將低溫冷卻水送入需冷卻的設(shè)備,冷凍水將熱量帶走后溫度升高再回流到水箱,達(dá)到冷卻的作用。冷卻水溫可根據(jù)要求自動(dòng)調(diào)節(jié),長(zhǎng)期使用可節(jié)約用水。

    使用自然水和水塔散熱都不可避免地會(huì)受到自然氣溫的影響,溫度控制不穩(wěn)定。真空鍍膜用工業(yè)冷水機(jī)組具有獨(dú)立的制冷系統(tǒng),水溫可在+5℃~35℃范圍內(nèi)調(diào)節(jié)控制,因而可以達(dá)到較高精度和效率控制溫度的目的,保證鍍件的產(chǎn)品質(zhì)量。


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2020-01-02

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